1.、催化剂

与吸附剂不同，催化剂属于化学吸附，一般含Ni、Mn和贵金属。化学吸附原则上是不可逆过程，以下我们介绍的105和401催化剂可以通过活化后再生。105催化剂(C-05)是含0.03％钯的分子筛，又称钯A分子筛，呈颗粒状，粒度约为8～60目。105催化剂的性能除了与分子筛相似外，还能除去氢气中微量氧。其脱氧的深度达到0.2ppm以下。该催化剂易被硫化物、氯化物、砷化物、一氧化碳及汞化物中毒。与105催化剂类似，只是在分子筛上涂银的叫201催化剂。201催化剂又称银催化剂。其性能与105催化剂相类似。但是现在已经不生产了。

401催化剂是20世纪80年代由中科院大连化学物理研究所研制的，401催化剂的脱氧深度很高，由于分析方法所限制，最低曾测到0.01ppmo 401催化剂与上述105、102催化剂最大区别是应用在惰性气体氮、氩和氦气中的脱氧方面。传统的氮、氩和氦气中除微量氧必须在氮、氩和氦气中添加少量氢，这时钯和银起到催化作用，从而达到除去微量氧的目的。这种方法的结果是氮、氩和氦气中增加了氢气杂质(在电子工业所用氮、氩和氦气中氢气是无害的)。

401催化剂使用一段时间后，色泽由浅绿变黑(镍氧化由低价变高价)，显示必需再生处理。此外还有一种是DH型高效脱氢催化剂。国外现在出现很多过渡金属和稀土金属等的催化剂。

现代的掺入无机材料催化剂的膜也已经制造，产生了新一代的功能性膜。

2、吸杂剂

吸杂剂又叫吸气剂，是一种化学吸附剂，失效后不能再生。吸杂剂在国外称为"Getter Materials"，简称“NEG(非蒸发吸杂剂)”。

金属铝、钛和锆金属或合金在高温下，能与气态氧化物、碳化物、氮化物发生化学反应，因而能应用于除去惰性氩和氦气中CO、CO、H₂O、N₂、H₂、CH₄(包括高的烷烯烃类CmHn)、氮化物等。部分吸杂剂还能吸附氢气杂质，不过效率不高。吸杂剂脱除惰性气体中CO、CO₂、H₂O、N₂、H₂、CH₄、杂质最低可到0.1～1ppm以下(由于分析仪器和分析技术所限)。如国产锆铝16(A116％+Zr84％)合金，也可制造成Zr₅A1₃、Zr₃A1₂、Zr₃Al₂和Zr₂Al等多种合金。锆铝合金在高温350～450℃时扩散速率最高，活性也就最好，吸气性能和容量最佳。意大利SAES公司研制的ST101锆铝合金，早期是专为氦离子气相色谱仪配套的惰性(氦)气体净化器，曾对惰性气体氦和氩气做过一系列实验，发现试验温度在400～800℃为最佳。用作吸杂剂的金属材料还包括Al、V、Fe、Ni等过渡元素合金。如商标号St707是意大利生产的，其成分是Zr=45％～75％,V=20％～45％,Fe=5％～35％(w/w)，试验了9种不同配方。用吸杂剂纯化氩气，100℃条件下，经过分析测试，氧＝2ppb；水＜20ppb。吸附容量：氧＝6L/L；水＝5L/L。

用吸杂剂对氨纯化做试验，结果为：氧＝1 ppm；水＝3ppm；碳氢化合物＜1ppm。

早期的吸杂剂主要在电子管中吸气剂而大量使用，以后则作为高纯惰性气体(高纯氨)的终端纯化装置的重要材料和部件。

3、熔体合金

熔体合金包括Ga-In-Al三元和碱金属系统两类。国内有关Ga-In-A1三元合金已经发表有多篇文章和专利，金属镓的熔点是29.78℃，而镓和铟以75:25比例组成的合金，这种合金的最低共熔点为16℃。清洗干净的金属铝屑投入镓-铟熔体合金中，在高纯氮气气氛情况下，稍许加热三元合金并通氮气搅拌使铝得到充分溶解。用这样方法制得的三元熔体合金能脱除电子气体(硅烷、磷烷、砷烷、乙硼烷和锗烷)中的微量氧、水和二氧化碳等。其机理是因为铝在熔体中在除去一层氧化铝后，露出新鲜的金属铝，表现出非常活泼的性质，熔体中的活性零价铝与烷类气体中的氧、水和二氧化碳表现出非常大的亲和力。作者曾用Ga-In-Al三元合金提纯硅烷、磷烷、砷烷、乙硼烷四种烷，经测试均获得满意的结果。Ga-In-Al合金经过一定时间后，熔体内铝的量变少后，可以通过清洗(用盐酸)后，Ga-In二元合金必须经过严格清洗和干燥后才能重复使用。直接用金属镓也可以与铝生成合金，不过使用温度要高干镓的熔点。其效果与Ga-In合金一样。也可采用在Ga-In二元合金中不用铝，而加入钙、镁、锂的办法。

除了上述Ga-In熔体合金外，还有碱金属Na,K,Rb,Cs及其合金也有脱除氧、水和二氧化碳等功能，碱金属Na,K,Rb,Cs及其合金还有Ga-In-Al熔体合金所没有的能脱除氨中碳氢化合物杂质的功能。不过碱金属作为烷类气体的纯化剂处理不很方便。

4、钯台金扩散净化

钯合金管也称钯合金膜管(壁厚0.1～0.15mm)，用钯合金管提纯氢气是最有效的方法，用这样方法制造的氢气纯度能达到99.9999999%(9N)。金属钯对氢具有高度选择性和渗透性，将氢气通入钯管，在钯的催化作用下，氢分子在钯合金膜表面被分解为氢原子，再进一步电离成氢离子。即：

H₂→2HH→2H⁺+2e

由于氢离子半径比钯的晶格常数小，所以氢离子能够渗透过钯合金膜。然后氢离子再与电子结合为氢分子。钯合金膜只允许氢气通过，而不让其他气体分子进入，起到过滤杂质的作用。钯常与银构成合金(Pd77％,Ag23％)形式制作为钯管、钯膜用于钯扩散纯化器。当温度为300～500℃时这时氢的扩散速率最大。对于使用钯扩散膜纯化的氢气要求初级纯度在99.5％以上，氧的含量不得高于0.2％，以防钯因氧与氢气的反应而局部升温而使钯退火。氢气中还不能含S、As、Hg、Cl₂和油脂等杂质。上述杂质将使钯中毒。制取钯扩散纯化器的国内厂家分布于北京、四川、大连和广东。

钯材料又可以与膜分离技术结合，日本NGK工业公司开发了一种高效率的膜分离组件，组件由多孔陶瓷管组成，外层为2um后的钯-银合金层，在400℃温度和1.0MPa压力条件下，随着气体的进入，氢气选择性地通过钯-银合金层陶瓷管，氢气纯度由50％提高到99.5％纯度。