六氟化钨在室温下是无色无嗅的气体，液化后成浅黄色液体，遇水很快发生反应，生成有毒的氟化氢气体。熔点2.3℃，沸点17.2℃，相对分子质量为297.84。六氟化钨作为半导体工业中的原材料，应用甚广。如大规模集成电路的配线材料和电极，通过CVD制备涂层，又可用于太阳能的吸收器。

1．邯郸718所于2007年公开了六氟化钨两篇专利

具体粗制生产WT₆过程如下：图2.69中，管道7,8分别通入1:(0.5～20)比例的氟气和氮气。操作前首先用真空泵把系统整个保持清洗干净，特别是微量水、HF分别降低到1ppm, 10ppm。然后以m (F)/m(N)=1/4(质量比)，流量1L/min从7,8处进入裂解管9(温度控制在80℃±5℃，压力为0.2MPa)，接着混合气进入事先放入99.95％纯度的80目钨粉的反应罐10内，反应罐控制温度为150℃±10℃，压力为0.2 MPa，反应进行5分钟，得到的六氟化钨在收集罐11内低温收集。温度控制在-40℃±5℃，压力为0.2MPa。没有液化的杂质气体通过13,14出口经碱液分解后排放。投入10kg钨粉约需时20h。最后将收集罐11温度继续下降到-70℃，再抽真空1小时，然后升温并升压到10Pa，再升温到60℃，压入到六氟化钨气瓶12中保存。这时六氟化钨纯度为99.5％, HF为主要杂质，含量为19ppm。

图2.69  六氟化钨气体制备图

1-真空泵;7,8-氮气、氟气;9-裂解管;10-反应罐;11-收集罐;12-纯六氟化钨罐;13,14出口

另外一篇是六氟化钨纯化方法(见图2.70)：在一个直径为100mm，高500mm的蒙内尔合金的吸附塔2中装填直径为为20mm，孔隙率为0.4的球状氟化钠颗粒，装填高度为450mm。使用前在通入高纯氮气情况下先在500～600℃活化6～12h。精馏塔用不锈钢材料制作。塔釜直径为100mm，高500mm，精馏柱直径为50mm，高2000mm，精馏柱内装填直径为2.5 mm的θ环丝网填料，装填高度为1800mm。除吸附塔2外，整个系统(包括粗品储罐、吸附塔、蒸馏塔和精品储罐)全部采用不锈钢管道连接，然后清洗、去油、干燥、抽真空，再用高纯氮置换3～5次，使得整个系统非常干净。从粗品储罐1向吸附塔2送入WF₆气体，流量为0.4L/min，在吸附塔内滞留10min，吸附温度15℃，操作压力0.3 MPa。精馏塔内釜底温度控制在4～8℃ , WF₆进入精馏塔后，即被液化，进料量约20kg，再升温釜底温度到25℃，精馏柱顶部温度在约20℃，这时向精馏塔釜底通入高纯He气，He气流量为0.2L/min，压力为0.1MPa左右。开始对WF₆进行精馏，待轻组分排放一定时间后，从精馏塔顶部取样进行分析，合格产品收集在精品气瓶4内。经气相色谱分析，结果如下：

WF₆纯度＝5N；杂质含量(ppm) : N₂<1 ;O₂+Ar<0.5 ; CO₂<0.5 ;CO<0.5；CF₄＜0.5；NF₃＜0.5；SF₆＜0.5；SiF₄＜0.5；HF<5。

图2.70  六氟化钨纯化方法

2．林德北美公司2009公开专利

采用碳质(Carbonaceous materials)(包括很多含碳有机、无机材料如煤、泥煤、坚果、木头、焦炭等黏结剂黏结后组成一定强度颗粒)前驱体作为纯化WF6的纯化剂。这种碳质纯化剂最好制造成多孔性，以增加其表面积。但是原始的金属钨粒(粉)必须不含或含量很少的周期表ⅢB(包括镧系和锕系元素),ⅣB,ⅤB,ⅥB,ⅦB,Ⅷ,ⅠB, ⅡB元素，尤其是Mo和Cr金属元素。原始粗WF₆可以采用变温吸附(TSA)、变压吸附(PSA)和精馏纯化WF₆，见图2.71。

图2.71WF₆的两级精馏纯化工艺流程

图2.71说明如下：精馏塔40A和40B为WF6纯化的后一部分(前一部分即粗制WF₆的工艺，WF₆与碳质反应器部分略),41为低于WF₆沸点的气体排放出口；42为高于WF₆沸点的液态杂质成分排放出口。22, 33 , 34(分别来自不同来源)粗制WF₆入口，根据原材料来源不同，可以通过46A或415A进入前精馏塔40A，精馏后的WF₆ 产品进入到后精馏塔，44或45为高纯WF₆出口装瓶处。

该专利对下列的氟化剂的活性按由强到弱的下面次序排列：

OF₂>F₂>NF₃＞CIF₃＞BrF₂＞IF₇＞CuF₂＞IF₅＞SF₆＞MnF₄>CF₄＞AsF₅＞MoF₆>CrF₅ >WF₆>FeF₃>NiF₂>UF₆>MgF₂>BF₃>AiF₃>ThF₄> CaF₂。(作者注：把OF₂放在首要位置，可与纯化NF₃方法比较)

方法用于脱除Cr和Mo，最低到小于1ppb，见表2.32。

表2.32  采用碳质纯化剂的WF₆中Cr和Mo杂质脱除的结果