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现代高纯气体中痕量杂质分析(一)

发布时间:2018-02-09 00:00 作者:中国标准物质网 阅读量:729

一.GC-MS测定砷烷中杂质

这是俄罗斯V. A. Krylov等的工作。气相色谱中的质谱检测器是一种灵敏度很高的检测器,在测定烷类气体中的杂质,如永久气体、C1~C5烃类和周期表中ⅢA、ⅣA、V A、Ⅵ A族元素等可以达到2×10-5~2×10-7mol%检测限;对其他无机氢化物的检测限为4×10-6~3×10-9mol%。为了提高灵敏度,如果采用浓缩富集方法,检测限还能继续下降。V. A. Krylov等采用色/质仪对高纯砷烷中杂质进行分析。

图3.38为人造砷烷和其他气体混合物的色谱分析图,图中砷烷未记录。其使用的色/质谱仪为Agilent 6890/MSD5973N气相色谱质谱仪,附带四极杆分析器、杂质用70eV能量的电子轰击离子化,离子源温度150℃;四极质量过滤器106℃;色/质仪接口200℃;色谱仪记录由总离子流进行扫描12~250amu。杂质与基体砷烷的分离采用PLOT柱,色谱柱为:长60m,内径0.32mm,内装硅胶。

色谱条件:载气为氦气,平均线速30cm/s。开始30℃维持8分钟,然后按10℃/min程序升温到100℃,维持5分钟,再升温到130℃,直到分析结束。

图3.38人造砷烷和其他气体混合物的色谱分析图

在上述色谱条件下,磷烷峰、乙烯峰与砷烷峰几乎重叠或重叠,砷烷出峰时间约6.7~8.6min,见图3.38,因而不能进行分析,必须采用另外办法解决(如切割或改变载气流速);对于砷烷中的痕量杂质N2、Ar、O2的分析则用分子筛作载体。分析取样量仅50ul(相当于1.7×10-4g)。表3.21为砷烷中气相色谱杂质分离参数。

表3.21气相色谱杂质分离参数(砷烷是基体)

表3.22为GC-MS测定砷烷中气态杂质的检出限。

表3.22纯砷烷中气态杂质检出限


mol%表示物质的量分数

二、GC-ICP-MS锗烷中磷烷分析

美国Voltaix公司于2010年公开了锗烷中磷烷脱除的专利,对GeH4中杂质PH3气体进行分析研究。分析仪器是一种高级的色谱一电感耦合等离子体-质谱(GC-ICP-MS)仪。图3.39为GC-ICP-MS仪分析的锗烷中磷烷色谱图(图3.39上为高含量磷烷4.3ppm;中为低含量磷烷0.13ppm;下则无磷烷检出)。

其分析结果为(单位ppb) : SSO580<50, SS1077<50, CS0998<4300,CS0736<4500,CS1025<50。

图3.39锗烷中磷烷的GC-ICP-MS分析

分析方法:用10ppm磷烷作标准,根据需要稀释配制到130ppb浓度磷烷,对分析样品进行校正。质谱仪中采用碰撞池技术(collision cell technology,简称CCT),降低了从31~47m/z的氧碰撞干涉。

色谱分析条件:

仪器:Thermo Scientific X Series ICP-MS;

色谱柱:800m×32mm, GasPro;

载气:H2, 20psi;

炉温:45℃,恒温;

进样量:250u1;

载气流速:2.5m1/min。

GC-ICP-MS仪分析条件:

检测器:ICP-MS,47(m/z),驻500ms;

附加Dasl:187 ml/min。

GC-ICP-MS仪器用于气态杂质分析,测定元素的质量数范围一般从6~260,浓度线性动态可达9个数量级,最高检测限为ppt。

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