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四、核磁双共振技术
核磁双共振(双照射法)采用两个射频场,辐射状扫频(v1)的同时,用另一更强固定射频照射(v2),使欲观测质子饱和,以消除对相邻质子的耦合。对照采用双照射技术前后图谱,确定谱线的归属。用双照射技术可以准确确定某组多重峰的化学位移,确定核群之间的耦合关系。
双照射的符号用Am{Xn}表示。其中A代表被射频v1观察的核,X代表被射频v2照射的核,m、n表示核的数目。
按照v2照射强度的不同,产生的效果不同,双照射可以分为几类,见表10-5。
表10-5 双照射的分类
注:W1/2为半峰宽。
(一)自旋去耦法
自选去耦的原理是:化学位移不同的HA、HB核有耦合时,因为HB有两种自旋取向,对HA有不同的影响,使HA发生分裂。在扫场法测定中,若用v1射频扫描,同时用第二个射频v2照射HB使之达到自旋饱和,HB核高速往返在两种自旋状态之间,此时HB对HA不再有两种不同的影响,使HA的双峰变成了单峰。当然若HA与分子内别的质子还有耦合,则不是变成单峰,而是一组简化了的多重峰(图10-19)。
图10-19 自旋去耦法示意图
比如化合物Ph-CH2-CH3的正常谱图(-CH2-CH3部分)如图10-20所示,图10-21为用W2干扰-CH2-得到的谱图。
图10-20 Ph-CH2CH3的CH2CH3 NMR图部分
图10-21 Ph-CH2CH3的CH2CH3自旋去耦图
(二)NOE效应
分子内有两个邻近的质子时(两核之间不一定有耦合),若用一个强度小于W1/2的射频照射其中的一个质子使其饱和,另一个质子的吸收峰面积就会增加,这一现象叫作核Overhauser效应(nuclearOverhauser effect, NOE)。利用NOE可以识别谱峰归属,研究分子的立体化学问题。
对1.42照射,HA信号增大17%;对1.97照射,HA信号基本不变。
图10-22为化合物Ⅱ正常图谱中的Ha、Hb、Hc部分,图10-23为照射-OCH3的NOE,Ha的强度在照射后比照射前增强了23%。
图10-22 化合物Ⅱ的一般NMR图
图10-23 照射化合物Ⅱ的-OCH3的NOE
五、普通样品制备
固体样品须在合适的溶剂中配成溶液,浓度尽量浓一些,以减少测量时间,但不宜过于黏稠。液态样品应具有较好的流动性,常用惰性溶剂稀释。合适的溶剂应黏度小,对试样溶解性能好,不与样品发生化学反应或缔合,且其谱峰不与样品峰发生重叠。
CC14无1H信号峰,而且价格便宜,是作1H NMR时常用的溶剂。作精细测量时常用的是氖代溶剂,如CD2C12,D2O等。
样品溶液中不应含固体微粒、灰尘或顺磁性杂质,否则,会导致谱线变宽,甚至失去应有的精细结构。为此,样品应在测试前预过滤,除,去杂质。必要时,应通氮气逐出溶解在试样中的顺磁性的氧气。
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